有關于四氟化碳氣體的說明

    中文名：四氟甲烷；四氟化碳  英文名：tetrafluoromethane; carbon  tetrafluoride  分子式：CF4  
    相對分子質量：88.01CAS號：75-73-0  危險性類別：第2.2類  不燃氣體化學類別：鹵代烷  


    四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體，可廣泛應用于硅、二氧化硅、氮化硅，磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗，太陽能電池的生產(chǎn)，激光技術、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗劑、控制宇宙火箭姿態(tài)，印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等方面也大量使用。  侵入途徑： 接觸眼睛,接觸皮膚,吸入,誤食  
健康危害： 當中害者因為缺氧不省人事，必須轉移到?jīng)]受污染的地方使之能呼吸新鮮空氣或者輸入氧氣  環(huán)境危害： 該物質在常溫常壓下是氣體。吸入高濃度的溶液后，會發(fā)生頭昏、惡心、嘔吐、方向感喪失、失調(diào)、昏迷。吸入者會窒息。低溫氣體會導致凍傷。  
    在常溫下，四氟化碳是無色、無臭、不燃的可壓縮性氣體，揮發(fā)性較高，是最穩(wěn)定的有機化合物之一，在900℃時，不與銅、鎳、鎢、鉬反應，僅在碳弧溫度下緩慢分解，微溶于水，在25℃及0.1Mpa下其溶解度為0.0015％（重量比），然而與可燃性氣體燃燒時，會分解產(chǎn)生有毒氟化物。 
    四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子燭刻氣體，其高純氣及四氟化碳高純氣配高純陽氧氣的混合體，可 廣泛應用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢薄膜材料的燭刻。 
    在電子器件表面清洗、太陽能電池的生產(chǎn)、激光技術、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗劑、控制宇宙火箭姿態(tài)、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等方面也大量使用。

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