260種特種氣體的用途你都曉得不？

特種氣體是由兩大類氣體組成的。

一類為單元高純氣體,另一類為混合氣體。

到目前為止,特種氣體中單元純氣體共有260種。

其中:

電子氣體共114種,占總數(shù)的43.8%(實(shí)際常用的約44種);

有機(jī)氣體共65種,占總數(shù)的25%;

無機(jī)氣體共35種,占總數(shù)的13.4%;

鹵碳素氣體共29種,占總數(shù)的11%;

同位素氣體共17種,占總數(shù)的6.8%。

本文專門介紹這260種單元高純特種氣體的用途。

1.氮?dú)?span style="FONT-FAMILY: Times New Roman">-N2,純度要求>99.999%,用作標(biāo)準(zhǔn)氣、在線儀表標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣、零點(diǎn)氣、平衡氣；用于半導(dǎo)體器件制備工藝中外延、擴(kuò)散、化學(xué)氣相淀積、離子注入、等離子干刻、光刻、退火、搭接、燒結(jié)等工序；電器、食品包裝、化學(xué)等工業(yè)也要用氮?dú)狻?/span>

2.氧氣-O2,>99.995%,用作標(biāo)準(zhǔn)氣在線儀表標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣、零點(diǎn)氣；還可用于醫(yī)療氣；在半導(dǎo)體器件制備工藝中用于熱氧化、擴(kuò)散、化學(xué)氣相淀積、等離子干刻等工序；以及用于光導(dǎo)纖維的制備。

3.氬氣-Ar,>99.999,用作標(biāo)準(zhǔn)氣、零點(diǎn)氣、平衡氣；用于半導(dǎo)體器件制備工藝中晶體生長、熱氧化、外延、擴(kuò)散、氮化、噴射、等離子干刻、載流、退火、搭接、燒結(jié)等工序；特種混合氣與工業(yè)混合氣也使用氫。

4.氫氣-H2,>99.999%,用作標(biāo)準(zhǔn)氣、零點(diǎn)氣、平衡氣、校正氣、在線儀表標(biāo)準(zhǔn)氣；在半導(dǎo)體器件制備工藝中用于晶休生長、熱氧化、外延、擴(kuò)散、多晶硅、鎢化、離子注入、載流、燒結(jié)等工序；在化學(xué)、冶金等工業(yè)中也有用。

5.氦氣-He,>99.999%,用作標(biāo)準(zhǔn)氣、零點(diǎn)氣、平衡氣、校正氣、醫(yī)療氣；于半導(dǎo)體器件制備工藝中晶體生長、等離子干刻、載流等工序；另外,特種混合氣與工業(yè)混合氣也常用。

6.氯氣-Cl2,>99.96%,用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣；用于半導(dǎo)體器件制備工藝中晶體生長、等離子干刻、熱氧化等工序；另外,用于水凈化、紙漿與紡織品的漂白、下業(yè)廢品、污水、游泳池的衛(wèi)生處理；制備許多化學(xué)產(chǎn)品。

7.氟氣-F2,>98%,用于半導(dǎo)體器件制備工藝中等離子干刻；另外,用于制備六氟化鈾、六氟化硫、三氟化硼和金屬氟化物等。

8.氨氣-NH3,>99.995%,用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣、在線儀表標(biāo)準(zhǔn)氣；用于半導(dǎo)體器件制備工藝中氮化工序；另外,用于制冷、化肥、石油、采礦、橡膠等工業(yè)。

9.氯化氫-HCI,>99.995%,用作標(biāo)準(zhǔn)氣；用于半導(dǎo)體器件制備工藝中外延、熱氧化、擴(kuò)散等工序；另外,用于橡膠氯氫化反應(yīng)中的化學(xué)中間體、生產(chǎn)乙烯基和烷基氯化物時起氧氯化作用。

10.一氧化氮-NO,>99%,用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣；用于半導(dǎo)體器件制備工藝中化學(xué)氣相淀積主序；制備監(jiān)控大氣污染的標(biāo)準(zhǔn)混合氣。

11.二氧化碳-CO2,>99.99%,用作標(biāo)準(zhǔn)氣、在線儀表標(biāo)推氣、校正氣；于半導(dǎo)體器件制備工藝中氧化、載流工序警另外,還用于特種混合氣、發(fā)電、氣體置換處理、殺菌氣體稀釋劑、滅火劑、食品冷凍、金屬冷處理、飲料充氣、煙霧噴射劑、食品貯存保護(hù)氣等。

12.氧化亞氮-N2O,(即笑氣),>99.999%,用作標(biāo)準(zhǔn)氣、醫(yī)療氣；用于半導(dǎo)體器件制備工藝中化學(xué)氣相淀積、醫(yī)月麻醉劑、煙霧噴射劑、真空和帶壓檢漏；紅外光譜分析儀等也用。

13.硫化氫-H2S,>99.999%,用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣；用于半導(dǎo)體器件制備工藝中等離子干刻,化學(xué)工業(yè)中用于制備硫化物,如硫化鈉,硫化有機(jī)物；用作溶劑；實(shí)驗(yàn)室定量分析用。

14.四氯化碳-CCl4,>99.99%,用作標(biāo)準(zhǔn)氣；用于半導(dǎo)體器件制備工藝中外延丫、化學(xué)氣相淀積等工序；另外,用作溶劑、有機(jī)物的氯化劑、香料的浸出劑、纖維的脫脂劑、滅火劑、分析試劑、制備氯仿和藥物等。

15.氰化氫-HCN,>99.9,用于半導(dǎo)體器件制備工藝中等離子干刻工序；制備氫氰酸溶液,金屬氰化物、氰氯化物；也用于制備丙烯睛和丙烯衍生物的合成中間體。

16.碳酰氟-COF2,>99.99%,用于半尋體器件制備工藝中等離子干刻工序；另外,用作氟化劑。

17.碳酰硫-COS,>99.99%,用作校正氣；用于半導(dǎo)體器件制備工藝中離子注入工序；也用于有些羧基、硫代酸、硫代碳酸鹽和噻唑的合成。

18.碘化氫-HI,>99.95%,用于半導(dǎo)體器件制備工藝中離子注入工序；還用于氫碘酸溶液制備。

19.嗅化氫-HBr,>99.9%,用于半導(dǎo)體制備工藝中等離子干刻工序；用作還原劑,制備有機(jī)及無機(jī)澳化合物。

20.硅烷-SiH4,>99.999%,電阻率>100Ω/cm2,用于半導(dǎo)體器件制備工藝中外延、化學(xué)氣相淀積等工序。

21.乙硅烷-Si2H6,>99.9%,用于半導(dǎo)體制備工藝中化學(xué)氣相淀積。

22.磷烷-PH3,>99.999%,用于半導(dǎo)體器件制備工藝中外延、擴(kuò)散、化學(xué)氣相淀積、離子注入等工序；磷烷與二氧化碳混合的低濃度氣體,可用于殺死糧倉的蟲卵和制備阻火化合物。

23.砷烷-AsH3,>99.999%,用于半導(dǎo)體器件制備工藝中外延、擴(kuò)散、化學(xué)氣相淀積、離子注入等工序。

24.硼烷-B2H6,>99.995%,用于半導(dǎo)體器件制備工藝中外延、擴(kuò)散、氧化等工序；用于有些化學(xué)工業(yè)合成過程:如氫硼化反應(yīng)(即生成醇類),有機(jī)功能的衰退,制備較高的硼烷衍生物和碳甲硼烷化合物。

25.鍺烷-GeH4,>99.999%,用于半導(dǎo)體器件制備工藝中外延、離子注入工序。

26.銻烷-SbH3,>99.999%,用于半導(dǎo)體器件制備工藝中外延、離子注入工序。

27.四氧甲硅烷-Si(OC2H5)4,>99.99%,用于半導(dǎo)體器件制備工藝中化學(xué)氣相淀積工序。

28.乙烷-C2H6,>99.99%,用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣、在線儀表標(biāo)準(zhǔn)氣；用于半導(dǎo)體器件制備工藝中等離子干刻工序；還用于冶金工業(yè)的熱處理,化學(xué)工業(yè)中制備乙醇、氧化乙二醇、氯乙烯、高醇類、乙醛等。

29.丙烷-C3H8,>99.99%,用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣、在線儀表標(biāo)準(zhǔn)氣；用于半導(dǎo)體器件制備工藝中等離子干刻工序；另外,用于燃料、冷凍劑、制備乙烯與丙烯的原料。

30.硒化氫-H2Se,>99.999%,用于半導(dǎo)體器件制備工藝中擴(kuò)散、離子注入工序。

31.碲化氫-H2Te,>99,999%,用于半導(dǎo)體器件制備工藝中擴(kuò)散、離子注入工序。

32二氯二氫硅-SiH2Cl2,>99.999%,用于半導(dǎo)體器件制備工藝中外延、化學(xué)氣相淀積工序。

33.三氯氫硅-SiHCl3,>99.999%,用于半導(dǎo)體器件制備工藝中外延、化學(xué)氣相淀積工序。

34.二甲基碲-(CH3)2Te,>99.999%,用于半導(dǎo)體器件制備工藝中擴(kuò)散、離子注入工序。

35.二乙基碲-(C2H5)2Te,>99.999%,用途同(34)。

36.二甲基鋅(CH5)2Zn,>99.999%,用于半導(dǎo)體器件制備工藝中化學(xué)氣相淀積工序。

37.二乙基鋅(C2H5)2Zn,>99.999%,用途同(36)。

38.三氯化磷-PCl3,>99.99%,用于半導(dǎo)體器件制備工藝中擴(kuò)散,鍺的外延生長和離子注入工藝；PCl3是有機(jī)物的良好氯化劑；也用于含磷有機(jī)物的合成。

39.三氯化砷-AsCl3,>99.99%,用于半導(dǎo)體器件制備工藝中的外延和離子注入。

40.三氯化硼-BCl3,>99.99%,用于等離子干刻、擴(kuò)散；作硼載氣及一些有機(jī)反應(yīng)的催化劑；精煉鎂、鋅、鋁、銅合金時從溶化金屬中除掉氮、碳、氧化合物。

41.四氯化硅-SiCl4,>99.999%,用于半導(dǎo)體器件制備工藝中外延、化學(xué)氣相淀積工序。

42.四氯化錫-SnCl4,>99.99%,用于外延、離子注入。

43.四氯化鍺-GeCl4,>99.999%,用于離子注入。

44.四氯化欽-TiCl4,>99.99%,用于等離子干刻。

45.五氯化磷-PCl5,>99.99%,用于外延、離子注入。

46.五氯化銻-Sb=Cl5,>99.99%,用于外延、離子注入。

47.六氯化鑰-MoCl6,>99.9%,用于化學(xué)氣相淀積。

48.三嗅化硼-BBr3,>99.99%,用于半導(dǎo)體器件制備工藝中離子注入工序和制備光導(dǎo)纖維。

49.三嗅化磷-PBr3,>99.99%,用于外延、離子注入。

50.磷酞氯-POCI3,>99.999%,用于擴(kuò)散工序。

51.三氟化硼-BF3,>99.99%,用于離子注入；另外,可作載氣、某些有機(jī)反應(yīng)的催化劑；精煉鎂、鋅、鋁、銅合金時從熔化金屬中除掉氮、氧、碳化物。

52.三氟化磷-PF3,>99%,用于外延、離子注入工序；另外用作氟化劑。

53.三氟化砷-AsF3,>99.9%,用途同(52)。

54.二氟化氨-XeF2,>99.9%,用于外延、離子注入工序；用于固定模具氨的考察及原子反應(yīng)堆排放廢氣中氮的測定。

55.三氟氯甲烷-CClF3,(R-13),>99.995%,用于等離子干刻工序；冷凍劑、空調(diào)均可用。

56.三氟甲烷-CHF3,(R-23),>99.999%,用于等離子干刻工序;低溫冷凍劑。

57.三氟化氮-NF3>99.99%,用于等離子干刻工序;火箭推進(jìn)劑、氟化劑。

58.三氟嗅甲烷-CBrF3,(R13B1),>99.99%,用于等離子干刻工序;還用于空調(diào)、低溫冷凍及滅火劑。

59.三氟化硼-11-B11F3,>99.99%,用于離子注入工序(天然硼的同位素,含11B8l%,10B19%。出售的11B是濃縮含有96%同位素BF3);還用于制備光導(dǎo)纖維。

60.四氟化碳-CF4,(R-14),>99.99%,用于等離子干刻工序;在很低溫度下作為低溫流體用;也用于中性及惰性氣體。

61.四氟化硫-SF4,>98%,用于等離子干刻工序;氟化劑、表面處理劑。

62.四氟化硅-SiF4,>99.99%,用于化學(xué)氣相淀積工序;制備氟硅酸及其鹽類。

63.四氟化鍺-GeF4,>99.999%,用于離子注入工序。

64.五氟化磷-PF5,>99.9%,用于離子注入、等離子干刻工序;另外,用作氟化劑,聚合、烴化及脫烴化反應(yīng)、烴類裂化反應(yīng)時作催化劑。

65.五氟氯乙烷-C2ClF6,(R-115),>99.99%,用于等離子干刻工序;另外,作冷凍劑、煙霧噴氣劑。

66.五氟化砷-AsF5,>99%,用于外延、離子注入工序,氟化劑。

67.六氟乙烷-C2F6,(R-116),>99.99%,用于等離子干刻工序;用作冷卻、冷凍劑和空調(diào);單體生產(chǎn)的原料;化學(xué)反應(yīng)中的添氟劑、電器設(shè)備的絕緣劑。

68.六氟化硫-SF6,>99.99%,用作標(biāo)準(zhǔn)氣;用于化學(xué)氣相淀積工序;由于在高電壓下具有很高的電阻,用作電器設(shè)備的絕緣劑;檢漏氣體,實(shí)驗(yàn)室中作色譜儀的載氣。

69.六氟化鎢-WF6,>99.99%,用于化學(xué)氣相淀積工序;強(qiáng)烈的氟化劑;也用作鎢載體。

70.六氟化氧-(CF3)2O2,>99.99%,用于等離子干刻工序。

71.六氟乙酰-(CF3)2CO,>99.99%,用途同(70)。

72.六氟乙酞氧-(CF3CO)2O,>99.99%,用途同(70)。

73.六氟化錸-ReF6,>97%,用于離子注入工序;氟化劑。

74.八氟丙烷-C3F8,(R-218),>99.9%,用于等離子干刻工序;與氟利昂相混合作冷凍劑;高壓電的絕緣劑。

75.八氟環(huán)丁烷-C4F8,(RC318),>99.99%,用于等離子干刻工序;用作冷卻劑、冷凍劑;作電器和電子設(shè)備的氣體絕緣。

76.十二氟戊烷-C5F12,>99.9%,用于等離子干刻工序;也可與CF4相混用。

77.三甲基鋁-(CH3)3Al,>99.999%,用于化學(xué)氣相淀積工序;金屬的有機(jī)合成。

78.三甲基鎵-(CH3)3Ga>99.999%,用途同(77)。

79.三甲基銻-(CH3)3Sb,>99.999%,用途同(77)。

80.三甲基錮-(CH3)3In,>99.999%,用途同(77)。

81.三乙基鋁-(C2H5)3Al,>99.999%,用途同(77)。

82.三乙基鎵-(C2H5)3Ga,>99.999%,用途同(77)。

83.四乙基鉛-(C2H5)4Pb,>99.999%,用于化學(xué)氣相淀積工序。

84.丙烯腈-C3H3N,>99.9%,用于等離子干刻工序。

85.1,1,2-三氯乙烯-C2HCl3,>99.99%,用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣、醫(yī)療氣;用于半導(dǎo)體器件制備工藝中熱氧化工序;另外,用于金屬的脫脂劑和脂肪、油、石蠟等萃取劑,衣服干洗,冷凍劑,殺菌劑。

86.甲烷-CH4,99.999%,用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣、在線儀表標(biāo)準(zhǔn)氣;作燃料、宇宙飛船中氣體電池。

87.甲烷硫醇-CH3SH,>99.5%,用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣;用于有機(jī)合成;作為噴氣燃料添加劑,殺真菌劑和蛋氨酸的中間體。

88.一甲胺-CH3NH2,>99%,用于硫化促進(jìn)劑、藥物、染料和炸藥等,并作溶劑、有機(jī)合成、醋酸人造纖維。

89.甲醇-CH3OH,>99.9%,用作標(biāo)準(zhǔn)氣,與空氣混合后作校正氣;用于制備甲醛和農(nóng)藥鄉(xiāng)用于有機(jī)物質(zhì)的萃取劑和酒精的變性劑。

90.二甲胺-(CH3)2NH,>99%,用作抗氧化劑;在溶液中作浮洗.劑、汽油穩(wěn)定劑、橡膠加速劑等。

91.二甲醚-(CH3)2O,>99.9%,在化學(xué)工業(yè)中用作配制合成橡膠和甲硫醚;用作甲基劑、萃取劑、溶劑;也用作制冷劑。

92.乙炔-C2H2,>99.9%,用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣;化學(xué)工業(yè)中的中間體,如制備乙烯、乙醛、醋酸乙烯、氯乙烯、乙烯醚等;用于原子吸收光譜。

93.乙烯-C2H4,>99.99%,用作在線儀表標(biāo)準(zhǔn)氣、標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣;是化學(xué)

工業(yè)合成中的重要原料,生產(chǎn)塑料的中間體,生產(chǎn)乙醇、醋酸、氧化乙烯、氯乙烯、乙苯等的原料;也用于焊接和切割、冷凍劑、某些水果、蔬菜生長的加速劑。94.氧化乙烯-C2H4O,99.9%,用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣、醫(yī)療氣;與CO2、R11、R21相混合作消毒劑,文物保管,皮革消毒,清洗衣料均可采用;化學(xué)工業(yè)中用作中間體,生產(chǎn)液體或固體聚乙二醇、乙醇胺類等。

95.溴代乙烯-C2H3Br,>99.9%,用作有機(jī)合成的中間體,用聚合法與共聚法來制備塑料。

96.一乙胺-CH3CH2NH2,>99%,水溶液中含有70%乙胺,作為下列化學(xué)工業(yè)制備中的中間體:著色劑,電鍍池、硫化增速劑等;還用于制藥、表面活性劑、萃取劑。

97.四氟乙烯-C2F4,>99%,在生產(chǎn)塑料時作為一種重要的單體,如泰氟隆等。

98.乙醛-CH5CHO,>99.9%,用作校正氣;用于制備酷酸、醋醉、醋酸乙酷、正丁醇、合成樹脂等。

99.二甲基二硫醚-CH3S2CH3,＞99.9%,用作校正氣、溶劑。

100.二甲基硫醚-CH3SCH3>99.9%,用作校正氣、溶劑。

101.乙醇-C2H5OH,>99.9%,用作校正氣;用于溶劑,制備染料、涂料、藥物、合成橡膠等。

102.乙酰氯-CH3COCl,99.99%,用于乙�；瘎┖突瘜W(xué)試制。

103.1-羥亞乙基-1,1雙磷酸-C2H8P2O7,>99.99%,簡稱HEDPA,用于特殊的洗滌、紡織漂白分離劑、磨料和環(huán)境衛(wèi)生;在石油和氣田中用作防腐劑。

104.環(huán)丙烷-(CH2)3,>99%,用于有機(jī)合成;醫(yī)藥上作麻醉劑。

105.甲基乙炔-C3H4>99%,用作在線儀表標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣;用于制備丙酮;化學(xué)工業(yè)中作合成中間體。

106.六氟丙酮-CF3COCF3,>99.9%,是強(qiáng)烈的反應(yīng)氣,常與脂肪酮發(fā)生化學(xué)反應(yīng),用這些酮類可制備不同的產(chǎn)品,如穩(wěn)定的液體、溶劑、水泥、單體、共聚物,以及農(nóng)業(yè)及藥物產(chǎn)品。

107.三甲胺-(CH3)3N,>99%,用作標(biāo)準(zhǔn)氣,溶液中含25%的三甲胺可作抗組胺治療處理;在化學(xué)工業(yè)中作中間體,用來生產(chǎn)殺蟲劑、潤濕劑、發(fā)泡劑、合成樹脂等表面活性劑。

108.丙烯-C3H8,>99.9%,用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣、在線儀表標(biāo)準(zhǔn)氣;在化學(xué)工業(yè)上用作制備異丙醇、氧化丙烯、氧基醇類、四氯化碳、聚丙烯等。

109.丙二烯-C3H4,99%,在線儀表標(biāo)準(zhǔn)氣;用于有機(jī)合成中間體。

110.氧化丙烯-C3H6O,>99.9%,(又稱1,2-環(huán)氧丙烷),用于制備丙二醇和泡沫塑料;也是醋酸纖維素、硝酸纖維素和樹脂等的溶劑。

111.甲基乙烯醚-CH3COCH3,>99.5%,用作標(biāo)準(zhǔn)氣;用于有機(jī)合成中間體;塑料和合成樹脂制備時的原料及共聚物的生產(chǎn)。

112.六氟丙烯-C3F6,>99.9%,用于有機(jī)合成中間體。

113.丙酰氯-CH3CH2COCl,＞99.9%,用于制備鹽酸、丙酸;用作氧化劑。

114.正丁烷-C4H10,>99.99%,用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣;用作燃料,商業(yè)上主要和異丁烷混合用;化學(xué)工業(yè)中作制備中間體:乙烯、丙烯、丁烯等;作煙霧噴射劑;充入溫度計球作標(biāo)準(zhǔn)蒸汽壓型的壓力表;與氦混合用作電離粒子計算器。

115.異丁烷-iC4H10,>99.99%,用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣;用途同(114)。

116.乙基乙炔C4H5,>99%,用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣;化學(xué)工業(yè)中作為合成中間體。

117.環(huán)丁烷-(CH2)4,>99%,作為液體溶劑,或與其它溶劑混合使用;也可作為合成中間體。

118.丁烯-1-C4H8,>99.9%,用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣;用于有機(jī)化合物的制備中間體;催化脫氫生成丁二烯。

119.順丁烯-2C4H8,>99%,用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣;用于有機(jī)化合物的制備中間體;催化脫氫生成丁二烯、酸式硫酸鹽,加水生成丁醇-2等;也可用作溶劑。

120.反丁烯-2-C4H8,>99%,用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣;用途同(119)。

121.順與反丁烯-2-C4H8,>99%,用作校正氣;用途同(119)。塑料和樹脂,生產(chǎn)尼龍-6;也是火箭燃料組成部分。

122.1,3丁二烯-C4H6,>99%,用作校正氣;用聚合法和共聚法來生產(chǎn)合成橡膠、塑料和樹脂,生產(chǎn)尼龍-66;也是火箭燃料組成部分

123.異丁烯-iC4H8,>99.9%,用作校正氣,用于有機(jī)中間體,使氧化產(chǎn)生丙酮和甲酸,在液相或氣相中催化使生成雙異丁烯等;也可用來制備合成橡膠,有很高的耐酸堿度;是良好的絕緣體。

124.八氟-2-丁烯-C4H8(全氟丁烯),>99.5%,用于有機(jī)合成中間體。

125.二甲乙基胺-(CH3)2NC2H5,99.99%,一接觸到氧化劑,反應(yīng)劇烈;與二氧化碳混合,遇到汞會產(chǎn)生爆炸反應(yīng)。

126.正戊烷-C5H12,>99%,用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣;作溶劑及合成中間體。

127.異戊烷-iC5H12,>99%,用作校正氣;用途同(126)。

128.2,2二甲基丙烷-C5H12,(又叫新戊烷),>99.9%,是生產(chǎn)異丁烯的原料,用于生產(chǎn)合成丁烯橡膠。

129.3-甲基-1-丁烯-C5H10,(甲基丁烯),>99.95%,用于有機(jī)合成中間體;也用于增加燃料的辛烷值;用于塑料的聚合。

130.特戊酰氯-(CH3)3CCOCl,>99.99%,可制備氯化氫與特戊酸;可與強(qiáng)氧化劑反應(yīng)。

131.苯-C5H6,>99.999%,用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣、零點(diǎn)氣;是染料、塑料、合成像膠、合成樹脂、合成纖維、合成藥物和農(nóng)藥的原料。

132.己烷-C6H14,>99.9%,用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣;作溶劑。

133.三乙基鋁三氯-C6H15Al2Cl3,>99.99%,用于合成中間體;烯類聚合催化劑,芳烴衍生物聚合的催化劑。

134.環(huán)己烷-C6H12,>99.99%,用作標(biāo)準(zhǔn)氣;用于制備環(huán)己醇和環(huán)己酮;用于合成耐6;在涂料工業(yè)中廣泛用作溶劑,也是樹脂、脂肪、石蠟、油類的極好溶劑。

135.己二酞氯-ClOC(CH2)4COCl,>99.99%,用于制備氯化氫與肥酸。

136.甲苯-C7H8,,>99.99%,用作零點(diǎn)氣、校正氣;用于制造糖精、染料、藥物和炸藥等;也用作溶劑。

137.苯乙烯-C8H8,,>99.9%,用作校正氣;用于制樹脂、塑料、合成橡膠等。

138.2-乙基己酰氯-C5H10,C2H5,COCl,>99.9%,可用于制備氯化氫和2-乙基己酸。

139.辛酰氯-CH3,(CH2,)6COCl,>99.9%,是氧化劑;可用于制備鹽酸與辛酸。

140.氨基咪哇酮-C9H15,N3O3,>99.9%,用作還原劑。

141.壬酰氯-CCH3(CH2)7COCl,>99.9%,用于制備鹽酸與壬酸。

142.新癸酰氯-C10H19OCl,>99.9%,用于制備鹽酸與新癸酸。

143.三異丁基鋁-C12H27,Al,(簡稱TIBA),>99.99%,用于合成中間體,是聚合烯類和二烯類的催化劑。

144.十二酰氯-CH3(CH2)10COCl,>99.9%,用于制備鹽酸與月桂酸。

145.十八酰氯-CH3(CH2)18COCl,＞99.9%,用于制備鹽酸與硬醋酸。

146.酚酞黃-C20H14O4,>99.9%,醫(yī)療用作瀉藥。

147.空氣(或合成空氣)-21%O2,79%N2,用作零點(diǎn)氣,超零點(diǎn)級空氣中含CnHm<0.lppm,零點(diǎn)級空氣中含CnHm<0.2ppm。零點(diǎn)級空氣經(jīng)常用于色譜儀火焰離子化檢定器和總碳量分析儀中的氧化劑。

148.仲氫-H2,>99.99%,用作火箭推進(jìn)劑;核工業(yè)中用于氣泡室;冷電子工程低溫液態(tài)供固體電路研究用。

149.純水-H2O,>99.9999%,用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣。

150.氖-Ne,>99.999%,用作標(biāo)準(zhǔn)氣、特種混合氣;用于充發(fā)光燈泡、電子管、訊號燈、等離子體研究、熒光燈中啟動器、火花室、蓋革一彌勒管、

激光器;用作低溫冷卻劑。

151.氪氣-Kr,>99.995%,用作標(biāo)準(zhǔn)氣、特種混合氣、燈泡與電子工業(yè)用氣。

152.氙氣-Xe,>99.995%,用作標(biāo)準(zhǔn)氣、特種混合氣,用于電光源、電子工業(yè)、充填閘流管和半波整流管。

153.溴氣-Br2,>99.99%,用于化學(xué)工業(yè)中制備澳化氫和其它嗅化合物、氧化劑、實(shí)驗(yàn)試劑;也用于染料和攝影工業(yè)。

154.臭氧-O3,>99.99%,用作醫(yī)療氣,用于外科設(shè)備的消毒,人類用水和游泳池的凈化,工業(yè)廢品的處理,污物消毒;紡織纖維、紙漿和糖類的漂白,樟腦的制備,礦物油及其衍生物的凈化。

155.氰氣-C2N2,>99%,用作焊接與切割耐熱金屬,與氧化劑、臭氧和氟氣混合后作火箭與導(dǎo)彈推進(jìn)劑;醫(yī)學(xué)上作薰蒸劑;用于許多有機(jī)合成中的媒介物。

156.氯化氰-ClCN,>99%,用于有機(jī)合成;與薰蒸氣體相混合可作熱源。

157.氟化氫-HF,>99.9%,用于制備氟化物、氟氣;在異構(gòu)化、冷凝過程、聚合、干燥、水解反應(yīng)等作為催化劑;在有些有機(jī)或無機(jī)反應(yīng)中作為氟化劑。

158.亞硝酰氯-NOCl,>99%,用于有機(jī)化合物的重氮化、硝化、氯化作用;也用于石油熟化劑。

159.過氟二氯氧ClO3F,>99%,用于與氟鹵素類相混合,成為火箭發(fā)動機(jī)的液態(tài)氧化劑;也可供街族化合物作選擇性的氟化劑。

160.碳酰氯-COCl2,(光氣),>99.9%,用于染料、藥物、除蕎劑、殺蟲劑、合成泡沫、樹脂和聚合等有機(jī)合成;還用作氯化劑。

161.硫酰氟-SOF2,>99.5%,用于制備氟碳化合物;是優(yōu)良的殺蟲薰蒸劑,用于集裝箱、農(nóng)作物種子、林木種子的薰蒸,倉庫、古建筑、園林果木蛀干性害蟲及白蟻的防治,以及文物檔案的保護(hù);也用作催化劑。

162.羰基鎳-Ni(CO)4,>99.95%,用于制備高純鎳;制成金屬鏡及很薄的鎳箔;是碳化反應(yīng)中有效的催化劑。

163.羰基鐵-Fe(CO)5在有的文獻(xiàn)中寫成Fe(CO)4〕,>99.95%,主要作鐵的載體,在汽油中作抗爆劑。

164.磷酸-H3PO4,>99.99%,用作校正氣;用于制磷酸鹽、甘油磷酸醋、磷酸按肥料;還作化學(xué)試劑。

165.過氙酸鈉-Na4XeO6·8H2O,>99.99%,強(qiáng)氧化劑,可測定水中汞含量。

166.一氧化碳-CO,>99.995%,用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣、在線儀表標(biāo)準(zhǔn)氣;與氫和其它氣體混合作燃料氣;用于從含有鐵、鉆和銅的礦砂中回收鎳;也可用于制備酸類、醚類和醇類化學(xué)品。

167.二氧化硫-SO2,>99.99%,用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣、在線儀表標(biāo)準(zhǔn)氣;用于啤酒、葡萄酒、肉類的防腐;硫化物和氧硫化物的制備;油類和食品的漂白劑;硫化紙漿的制備;制冰工業(yè)的冷卻劑。

168.二氧化氮-NO2(N2O4),>99.9%,用作標(biāo)準(zhǔn)氣;用于一些氧化反應(yīng)的催化劑;在丙烯酸鹽類精餾時用于防止聚合,用作有機(jī)物的硝化劑、氧化劑、火箭燃料一、面粉漂白劑。

169.二氟化氧-OF2,>99.5%,用作氧化劑,是高能火箭推進(jìn)劑系統(tǒng)中的組成部分。

170.三氧化二氮-N2O3,>99.5%,與堿化合生成純堿亞硝酸鹽類;在特殊燃料系統(tǒng)中作氧化劑,也用于萜烯類的鑒定。

171.三氧化氙-XeO3,>99.99%,用于通過氧化還原代替測定氧化溶液的含量(Xe6→Xe0)。

172.三氧化硫-SO3,>99.99%,用于化學(xué)工業(yè)中制備硫酸與發(fā)煙硫酸;是硫化劑;也用于染料工業(yè)。

173.三氟化氯-ClF3,>99.5%,用作火箭導(dǎo)彈推進(jìn)劑,當(dāng)接觸到燃料時(自發(fā)能力)能使其立刻開始反應(yīng);也用作油井管道切割劑,管道深達(dá)2公里也可用它來切斷管子。

174.三氟化溴-BrF5,>99.5%,用作氟化劑和電解溶劑;也用于火箭導(dǎo)彈的推進(jìn)劑。

175.四氟化氮-N2F4,>99.9%,強(qiáng)氧化劑,可制備三氟化氮。

176.四氟化氙-XeF4,>99.9%,可用于制備過氙化合物和三氧化氙溶液。

177.五氟化溴-BrF5,>99%,用作氟化劑;也用于火箭導(dǎo)彈的推進(jìn)劑。

178.五氟化氯-ClF5,>99%,強(qiáng)烈的氧化劑,腐蝕性比三氟化氯小,可制備有機(jī)及無機(jī)氟化物;可作空間推進(jìn)器的助燃劑。

179.五氟化碘-IF5,>99%,用作氟化劑和燃燒劑。

180.六氟化鉬-MoF5>99.9%,強(qiáng)烈的氟化劑,也用于鑰的載體。

181.六氟化碲-TeF5,>99.9%,用作氟化劑和啼的載體。

182.氟三氯甲烷(R11)-CCl3F,>99.95%,用于冷凍工業(yè)、空調(diào)、溶劑

、滑冰場、鹽水和海水裝置、煙霧噴射劑、發(fā)泡劑、檢漏、紡織品的干洗。

183.二氟二氯甲烷(R12)-CCl2F2,>99.9%,用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣;用于低溫空調(diào)、食品貯藏、冷凍工業(yè)、煙霧噴射劑、檢漏、膨脹劑、氣相絕緣材料。

184.二氟氯溴甲烷(R12B1)-CBrClF2,>99.9%,用于石油、丙酮、二硫化碳生產(chǎn)中及電器著火時的滅火劑。

185.二氟二溴甲烷(R12B2)-CBr2F2,>99.9%,用于快速聚合;用作滅火劑。

186.二氯氟甲烷(R21)-CHCl2F,>99.9%,用于氣候很熱時的空調(diào)、冷凍劑、溶劑、煙霧噴射劑、化學(xué)媒介物。

187.二氟氯甲烷(R22)-CHCiF2,>99.9%,用于冷卻和空調(diào);在低溫噴霧特

殊情況下作煙霧噴射劑;氟化聚合物的生產(chǎn)和檢漏。

188.二氟甲烷(R32)-CH2F2,>99%,用作冷凍劑,與五氟氯乙烷(R115)混合后形成共沸混合物的冷凍劑。

189.氯甲烷(R40)–CH3Cl,>99.5%,用作冷凍劑,局部麻醉處理;氣溶膠工業(yè)中當(dāng)作噴射氣體;有機(jī)合成中用作甲基劑;作溶劑或萃取劑。

190.溴甲烷(R40B1)-CH3Br,>99.9%,用于有機(jī)合成(著色劑)中甲基劑;低溫溶劑、冷凍劑;土壤與種子的薰蒸劑。

191.氟甲烷(R41)-CH3F,>99.9%,以混合物用作非燃燒性的煙霧噴射劑。

192.l,1,2,-三氯三氟乙烷(R113)-C2Cl2F3,(俗稱TTE),>99.9%,用作冷凍劑、傳熱介質(zhì);制備三氟氯乙烯(R1113)的中間媒介物。

193.1,2-二氯四氟乙烷(R114)-C2Cl2F4,>99%,用作冷凍、冷卻、空調(diào),單獨(dú)與二氟二氯甲烷(R12)混合作為化妝品煙霧噴射劑。

194.1,2-二嗅四氟乙烷(R114B2)-C2Br2F4,>99.5%,用作溶劑、滅火劑,與其它氟碳化合物相混合作噴射劑。

195.五氟氯乙烷(R115)-C2ClF5,>99.9%,用作冷凍劑、煙霧噴射劑。

196.二氟氯乙烷(R142B)-C2H3ClF2,>99%,用作冷凍劑、溶劑、與非燃燒性的鹵碳類化合物相混合作噴射劑。

197.三氟乙烷(R143)-C2H3F3,>99.9%,用作冷凍劑。

198.1,1-二氟乙烷(R152A)-C2H4F2,>99%,用作冷凍劑、煙霧噴射劑、有機(jī)合成中間媒介物。

199.氯乙烷(R160)-C2H3Cl,>99.9%,用于局部麻醉的醫(yī)療處理,外科和皮膚科的噴霧醫(yī)療;在染料工業(yè)中當(dāng)作乙基劑、冷凍劑、溶劑、殺蟲劑的生產(chǎn)。

200.氟乙烷(R161)-C2H5F,>99.9%,用于合成中間媒介物。

201.R-12與R152A共沸混合物(R500)-CCl2F2/C2HF5,>99.9%,用作冷凍劑、空調(diào)。

202.R-22與R115共沸混合物(R502)-CHClF2/C2H4F2,>99.9%,用作冷凍劑、空調(diào)、噴霧。

203.R-23與R13共沸混合物(R503)-CClF3/CHF3,>99.9%,用作冷凍劑、空調(diào)。

204.全氟丁烷(R601)-C4F10,>99%,用作絕緣氣體。

205.三氟氯乙烯(R1113)-C2ClF3,>99%,用于制備潤滑脂、油類、

蠟類、塑料的聚合劑,聚三氟氯乙烯的單體。

206.三氟溴乙烯(R113B1)-C2BrF3,>99%,用于聚合反應(yīng)和化學(xué)中間體。

207.二氟氯乙烯(R1122)-C2HClF2,＞99.9%,用于化學(xué)合成中間體。

208.1,1-二氟乙烷(R1132A)C2H2F2,>99%,是一個很重要的單體,用于生產(chǎn)塑料及彈性體。

209.氯乙烯(R1140)-C2H3Cl,>99.9%,用作標(biāo)準(zhǔn)氣;用作聚合劑、有機(jī)合成的中間體。

210.氟乙烯(R1140)-C2H3F,>99.9%,用作聚合劑、有機(jī)合成的中間體。

211.氦-3–He3,>99.99%,充計數(shù)管;作稀釋制冷機(jī)超低溫冷源,可達(dá)4.5×10-3K。

212.氦-4-He4,>99.99%,在空間應(yīng)用的低溫火箭燃料、核反應(yīng)堆中重水及所有常溫與低溫的液體均可用氦-4作壓送氣。

213,氘-D2,>99.95%,在核工業(yè)研究中應(yīng)用在氖核加速器中作為拋射體;當(dāng)放射丫能射線時作為中子源;在研究化學(xué)反應(yīng)時,包括氫化合物,可作為軌跡用;用于生產(chǎn)重水(D2O)。

214.氚-T2,>99.95%,用作標(biāo)準(zhǔn)氣,控制每升為1000微居里,有很廣泛的活潑性,與氖氬混合作為載氣,可用于檢測微量氮?dú)饧捌渌�稀有氣體�！�

215.氧-18-O218,>99%,可制備H218O、D218O、S18O2。

216.氮-15-N215,>99%,可制備15NH3、16NO、15NO等。

217.氬-36–Ar36,>99.99%,計量值用。

218.氬-40-Ar40,>99.99%,計量值用。

219.氖-20Ne20,>99.99%,計量值用。

220.氖-22Ne22,>99.99%,計量值用。

221.氪-85-Kr85,>99.99%,標(biāo)準(zhǔn)氣,控制每升為10微居里,充燈泡用。

222.氪-86-Kr86,>99.9%用作標(biāo)準(zhǔn)氣。

223.氙-133-Xe133,>99.9%,充燈泡用。

224.碳-13-C13,>99%,可制備13CO2、13C6H8、13CO、13COS、13C2H4等。

225.碳-14-C14,>99%,用作標(biāo)準(zhǔn)氣,控制每升為100微居里。

226.碳-18-C18,>99%>99%,可制備C18O2、C18O。

227.硫-35-S35,>99%,用作標(biāo)準(zhǔn)氣,控制每升為100微居里。

(1983年5月整理)

最近發(fā)現(xiàn)的12種,前10種為電子氣,后2種為有機(jī)氣體。

1.三氯甲烷-CHCl3,>99.9%,用于等離子干刻。

2.三氯乙烷-C2HCl3,>99.9%,用于熱氧化。

3.二甲基二氯硅烷-(CH3)2SiHCl2,>96%,用于外延、化學(xué)氣相淀積。

4.二甲基氯硅烷-(CH3)2SiHCl,>96%,用于外延、化學(xué)氣相淀積。

5.三甲基氯硅烷-(CH3)3SiCl,>95%,用于外延、化學(xué)氣相淀積。

6.二氟四氯乙烷-C2Cl4F2,>99.9%,用于等離子干刻。

7.六氟化硅-SiF2,>99.9%,用于等離子干刻。

8.八氟甲烷-CF8,>99.9%,用于等離子干刻。

9.異十氟丁烷-i-C4F10,>99.9%,用于等離子干刻。

10.十二氟乙烷-C2F12,>99.9%,用于等離子干刻。

11.乙烯基甲基醚-C3H3O,>99.5%。

12.乙烯基乙炔-CH2CHC2H,>50%。

(1983年7月補(bǔ)充)

1.二甲基鎘-(CH3)2Cd,純度＞99.999%,電子氣,用于MOCVD。

2.二乙基鎘-(C2H5)2Cd,>99.999%,電子氣,用于MOCVDo

3.四甲基錫-(CH3)4Sn,>99.999%,電子氣,用于MOCVD。

4.四乙基錫-(C2H5)Sn,>99.999%,電子氣,_用于MOCVD。、

5.三甲基砷-(CH3)3As,>99.999%,電子氣,用于MOCVD。

6.三乙基砷-(C2H5)3As,>99.999%,電子氣,用于MOCVD。

7.三乙基銻-(C2H5)3Sb,>99.999%,電子氣,用于MOCVD。

8.二乙基銦-(C2H5)2ln,>99.9999%,電子氣,用于MOCVD。

9.二甲基銦-(CH3)2In,)99.9999%,電子氣,用于MOCVD。

10.二乙基鎂-(C2H5)2Mg,>99.999%,電子氣,用于MOCVD。

11.二甲基汞-(CH3)2Hg,>99.999%,電子氣,用于MOCVD。

12.二乙基汞-(C2H5)2Hg,>99.999%,電子氣,用于MOCVD。

13.三甲基磷-(CH3)3P,>99.999%,電子氣,用于MOCVD。

14.三乙基磷-(C2H5)3P,>99.999%,電子氣,用于MOCVD。

15.三異丁基鋁-(i-C4H9)3AI,＞99.9999%,電子氣,用于MOCVD。

16.丙硅烷-Si3H8,>99%,電子氣,用于CVD。

17.三氯化鋁-AlCl3,>99.999%,電子氣,用于外延。

18.五氟化鉭-TaF5,>99.9%,電子氣,用于離子注入。

19.五氟化鉈-TlF5,>99.9%,電子氣,用于離子注入。

20.氯乙烯-C2H3Cl,99.9%,校正氣,用作冷凍劑。

21.氟乙烯-C2H3F,>99.9%,校正氣,用于制聚乙烯樹脂和其它單體的共聚物。

(1986年7月15日收稿)

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