高純SF6氣體的應用
高純SF6氣體是我國科研、生產等許多部門急需的特種氣休,在半導體工業(yè)巾用于等離子蝕刻工藝,在光導纖維制造中用作隔離層摻雜劑。高純SF6氣體還是重要的激光材料,在其它領域也有重要用途。
在TFT-LCD面板廠及其他微電子行業(yè)，高純SF6氣體常用作清潔氣體和蝕刻氣體，在光導纖維的生產過程中，也常用六氟化硫作為單膜光纖隔離層摻雜劑。
高純氧化鋁能顯著提高PTFE耐高溫絕緣性能。
復合PTFE相對介電常數隨溫度的升高而減小，隨填料的增加而增大。在相同添加量的情況下，加入BN的復合PTFE相對介電常數最小，其次是高純氧化鋁（Al2O3）,加入MoS2的復合PTFE相對介電常數最大。
高純氧化鋁能有效提高PTFE的耐電弧燒蝕性能。
添加無機填料能有效的提高噴口材料耐電弧燒蝕性能。當填料種類不同時，復合PTFE的電弧燒蝕量依次為：
復合MoS2的PTFE燒蝕量>復合三氧化二鋁的PTFE燒蝕量>復合BN的PTFE燒蝕量。
高純氧化鋁的粒徑范圍是在5-10um，純度為99.9999%為最佳。
高純氧化鋁還能提高PTFE的耐高溫性能，耐磨性能。
2010年我國將成為僅次于美國的世界第二大集成電路市場，目前國內使用高純六氟化硫作為蝕刻氣的生產線約有50條左右。
在未來的五年預計將有20條至30條新線建成。每年約消耗高純六氟化硫為600噸左右。而國內高純六氟化硫產品遠遠不能滿足市場需求，半導體廠家所用高純產品大部分依賴進口，這給六氟化硫氣體企業(yè)提供更多的發(fā)展機遇。
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